Fa'atulagaina fa'amekanika vaila'au(CMP) o se faiga faavae i le gaosiga o semiconductor fa'aonaponei. E tu'uina atu ai le lamolemole o le atomika i luga o luga o le wafer, e mafai ai ona fa'atulaga ni vaega e tele, fa'apipi'i lelei masini, ma maua ai ni fua fa'atatau e sili atu ona fa'atuatuaina. E tu'ufa'atasia e le CMP gaioiga fa'akemikolo ma fa'ainisinia i le taimi e tasi—e fa'aaoga ai se pad e fa'ata'amilomilo ma se slurry fa'apitoa—e aveese ai ata tifaga e tele ma le lamolemole o luga, e taua tele mo le fa'atulagaina o foliga ma le fa'atulagaina i totonu o matagaluega tu'ufa'atasi.
O le lelei o le wafer pe a uma le CMP e faʻalagolago tele i le pulea lelei o le tuufaatasiga ma uiga o le slurry polishing. O loʻo i ai i le slurry ni vaega oona, e pei o le cerium oxide (CeO₂), o loʻo faʻapipiʻiina i totonu o se faʻafefiloi o vailaʻau ua mamanuina e faʻaleleia ai le sologa lelei o le olo ma le fua faatatau o le tali atu o vailaʻau. Mo se faʻataʻitaʻiga, o le cerium oxide e ofoina atu le malosi sili ona lelei ma le kemisi o luga mo ata tifaga e faʻavae i le silicon, ma avea ai ma mea e filifilia i le tele o faʻaoga CMP. O le aoga o le CMP e le gata ina faʻatonuina e meatotino o vaega oona ae faʻapea foʻi ma le puleaina saʻo o le maualuga o le slurry, pH, ma le mafiafia.
Fa'atulagaina Fa'amekanika Kemikolo
*
Fa'avae o le Fa'apala'aina o Slurries i le Gaosiga o Semiconductor
O mea e olo ai le palapala e taua tele i le faagasologa o le fa'atulagaina o mea fa'akemikolo ma fa'ainisinia. O ni fa'afefiloi faigata ia ua mamanuina e ausia ai le oloina fa'akemikolo ma le suiga o le fogāeleele fa'akemikolo i luga o luga o le palapala. O matafaioi taua o mea e olo ai le palapala CMP e aofia ai le aveeseina lelei o meafaitino, puleaina o le fa'atulagaina, tutusa i luga o vaega tetele o le palapala, ma le fa'aitiitia o mea sese.
Matafaioi ma Fa'atulagaga o Palu Fa'apala
O se slurry masani a le CMP o loʻo i ai ni vaega faʻamama e tautau i totonu o se matrix vai, faʻaopoopo i ai faʻaopoopoga vailaʻau ma mea e faʻamautu ai. E tofu le vaega ma se matafaioi tulaga ese:
- Mea fa'apala:O nei vaega manifinifi ma malō—e masani lava o le silica (SiO₂) po'o le cerium oxide (CeO₂) i fa'aoga semiconductor—e fa'atinoina le vaega fa'ainisinia o le aveeseina o meafaitino. O lo latou malosi ma le tufatufaina atu o le tele o vaega e pulea ai le saoasaoa o le aveeseina ma le lelei o le fogaeleele. O le aofa'i o mea e olo ai e masani ona amata mai le 1% i le 5% i le mamafa, fa'atasi ai ma le lautele o vaega i le va o le 20 nm ma le 300 nm, ua fa'amaoti lelei ina ia 'alofia ai le tele o le valuina o le wafer.
- Fa'aopoopoga Fa'akemikolo:O nei vailaʻau e faʻatuina ai le siosiomaga faʻakemikolo mo le faʻatulagaina lelei o le planarization. O mea faʻaola (e pei o le hydrogen peroxide) e faʻafaigofieina ai le fausiaina o vaega o luga e faigofie ona olo. O mea faʻapipiʻi poʻo mea faʻapipiʻi (e pei o le ammonium persulfate poʻo le citric acid) e fusifusia ai ions uʻamea, faʻaleleia atili ai le aveeseina ma taofia ai le fausiaina o mea sese. E faʻaofiina mea e taofia ai le etching e le manaʻomia o vaega o le wafer e lata ane poʻo lalo ifo, faʻaleleia atili ai le selectivity.
- Mea Fa'amautu:O surfactants ma pH buffers e fa'atumauina le mautu o le slurry ma le fa'asalalauina tutusa. O surfactants e puipuia ai le fa'aputuga o mea fa'amama, ma fa'amautinoa ai le tutusa o le ave'esea. O pH buffers e mafai ai ona tutusa le saoasaoa o le tali atu o vaila'au ma fa'aitiitia ai le ono mafai ona fa'aputuina pe 'ele'elea vaega.
O le fa'atulagaga ma le malosi o vaega ta'itasi ua fa'atulagaina i mea fa'apitoa o le wafer, fausaga o le masini, ma le la'asaga o le fa'agasologa o lo'o aofia i le fa'agasologa o le fa'atulagaina fa'akemikolo fa'ainisinia.
Palu Masani: Silica (SiO₂) vs Cerium Oxide (CeO₂)
O mea e fa'apala ai le silica (SiO₂)e pulea ai la'asaga o le fa'atulagaina o le oxide, e pei o le interlayer dielectric (ILD) ma le shallow trench isolation (STI) polishing. Latou te fa'aogaina le colloidal po'o le fumed silica e fai ma abrasives, e masani lava i se siosiomaga masani (pH ~10), ma o nisi taimi e fa'aopoopoina i ai ni surfactants laiti ma ni mea e taofia ai le pala e fa'atapula'a ai mea sese o le valu ma fa'aleleia atili ai le saoasaoa o le aveeseina. E taua tele vaega o le silica ona o lo latou tele tutusa ma le maualalo o le ma'a'a, e maua ai le aveeseina mālie ma tutusa o mea e talafeagai mo vaega maaleale.
O mea e fa'apala ai le Cerium oxide (CeO₂)e filifilia mo faʻaoga faigata e manaʻomia ai le maualuga o le filifiliga ma le saʻo, e pei o le faʻapalaʻaina mulimuli o le tioata, faʻatulagaina faʻapitoa o le substrate, ma nisi vaega o le oxide i masini semiconductor. O mea faʻamama CeO₂ e faʻaalia ai le tali atu tulaga ese, aemaise lava i luga o le silicon dioxide, e mafai ai ona aveese uma vailaʻau ma masini. O lenei amioga faʻalua-gaioiga e maua ai le maualuga o le faʻatulagaina o le planarization i tulaga maualalo o le faʻaletonu, ma avea ai CeO₂ slurries ma mea e sili ona lelei mo tioata, substrates hard disk, poʻo nodes masini logic faʻapitoa.
Fa'amoemoega Fa'atino o Mea Fa'a'a'a, Mea Fa'aopoopo, ma Mea Fa'amautu
- Mea fa'apalaFa'atino le oloina fa'amekanika. O lo latou tele, foliga, ma le malosi e fa'atonutonuina ai le saoasaoa o le aveeseina ma le fa'auma o le fogaeleele. Mo se fa'ata'ita'iga, o mea oloina silica 50 nm tutusa e fa'amautinoa ai le malu ma le tutusa o le fa'atulagaina o vaega o le oxide.
- Fa'aopoopoga Fa'akemikolo: Fa'afaigofieina le aveeseina fa'apitoa e ala i le fa'afaigofieina o le fa'a'okeseneina ma le fa'ata'ape'apeina o le fogaeleele. I le CMP kopa, o le glycine (e fai ma fa'aputuga) ma le hydrogen peroxide (e fai ma fa'a'okesene) e galulue fa'atasi, a'o galue le BTA o se mea e taofia ai le puipuia o vaega o le kopa.
- Mea Fa'amautuIa tausia le tutusa o le tuufaatasiga o le slurry i le aluga o taimi. E taofia e surfactants le fa'aputuga ma le fa'aputuga, ma fa'amautinoa ai o lo'o salalau solo vaega o le abrasive ma avanoa mo le fa'agasologa.
Meatotino Tulaga Ese ma Tulaga Fa'aaogāina: CeO₂ ma SiO₂ Slurries
CeO₂ fa'apalapala palapalaE ofoina atu le filifiliga maualuga i le va o le tioata ma le silicon oxide ona o lona tali atu fa'akemikolo masani. E matua aoga lava mo le fa'atulagaina o mea malo ma maaleale po'o fa'aputuga oxide tu'ufa'atasi lea e taua ai le filifiliga maualuga o meafaitino. O lenei mea e avea ai CeO₂ slurries ma tulaga masani i le sauniuniga fa'apitoa o le substrate, fa'auma tioata sa'o, ma la'asaga fa'apitoa o le shallow trench isolation (STI) CMP i le alamanuia semiconductor.
SiO₂ slurry fa'apalae maua ai se tu'ufa'atasiga paleni o le aveeseina fa'amekanika ma vaila'au. E fa'aaogaina lautele mo le bulk oxide ma le interlayer dielectric planarization, lea e mana'omia ai le maualuga o le throughput ma le la'ititi o le fa'aletonu. O le tutusa ma le pulea o le tele o le fasi silica e fa'atapula'aina ai fo'i le gaosia o maosi ma fa'amautinoa ai le lelei sili atu o le fogafale mulimuli.
Taua o le Tele o le Vaega ma le Tutusa o le Fa'asalalauina
O le tutusa o le tele o vaega ma le tutusa o le fa'asalalauina e taua tele i le fa'atinoga o le slurry. O vaega fa'a'a'a e tutusa ma le nanometer e fa'amautinoa ai le tutusa o le ave'esea o meafaitino ma se foliga e leai se fa'aletonu. O le fa'aputuga e mafua ai le valuvalu pe fa'apulusaina e le'i mafaufauina, ae o le tele o le tufatufaina atu e mafua ai le le tutusa o le planarization ma le fa'ateleina o le mafiafia o fa'aletonu.
O le pulea lelei o le malosi o le slurry—e mata'ituina e tekinolosi e pei o le mita o le mafiafia o le slurry po'o masini e fuaina ai le mafiafia o le slurry e ala i le ultrasonic—e fa'amautinoa ai le fa'aauau pea o le mamafa o le abrasion ma le i'uga e mafai ona va'aia i le fa'agasologa, e a'afia sa'o ai le fua ma le fa'atinoga o le masini. O le ausiaina o le pulea sa'o o le mafiafia ma le fa'asalalauina tutusa o mana'oga autu ia mo le fa'apipi'iina o masini fa'ata'atitia fa'akemikolo ma le fa'aleleia atili o le fa'agasologa.
I se aotelega, o le fa'atulagaina o slurries fa'apolish—aemaise lava le filifiliga ma le puleaina o le ituaiga abrasive, le tele o le fasi, ma auala e fa'amautu ai—e fa'avae ai le fa'atuatuaina ma le lelei o le fa'agasologa fa'a-mekanika fa'ata'atitia i totonu o fa'aoga i le alamanuia semiconductor.
Taua o le Fuaina o le Slurry Density i le CMP
I le faiga fa'a-kemikolo fa'a-mekanika, o le fuaina sa'o ma le puleaina o le mafiafia o le slurry e a'afia sa'o ai le lelei ma le lelei o le fa'apala'au o le wafer. O le mafiafia o le slurry—o le fa'aputuga o vaega oona i totonu o le polishing slurry—e galue o se ki autu o le faiga, e fa'atulaga ai le fua fa'apala'au, le lelei mulimuli o le fogā'ele'ele, ma le aofa'i atoa o le fua o le wafer.
Sootaga i le va o le Slurry density, polishing rate, luxury quality, ma le Wafer Yield
O le malosi o le vaega olo i totonu o se CeO₂ polishing slurry poʻo se isi faʻatulagaga polishing slurry e fuafua ai le vave o le aveeseina o le mea mai le fogāeleele o le wafer, e masani ona taʻua o le removal rate poʻo le material removal rate (MRR). O le faʻateleina o le slurry density e masani ona faʻateleina ai le aofaʻi o abrasive contacts i le iunite area, ma faʻavavevave ai le polishing rate. Mo se faʻataʻitaʻiga, o se suʻesuʻega faʻatonutonuina i le 2024 na lipotia mai ai o le faʻateleina o le silica particle concentration i le 5 wt% i le colloidal slurry na faʻateleina ai le aveʻesea o le 200 mm silicon wafers. Peitaʻi, o lenei sootaga e le o se laina saʻo—o loʻo i ai se tulaga o le faʻaitiitia o le toe foʻi mai. I le maualuga o le slurry density, o le faʻaputuga o vaega e mafua ai se plateau poʻo le faʻaitiitia foʻi o le aveʻesea o le fua faatatau ona o le faʻaletonu o le felauaiga o le tele ma le faʻateleina o le viscosity.
E tutusa lava le maaleale o le tulaga lelei o le fogāeleele i le mafiafia o le palapala. I le maualuga o le tulaga, e faʻateleina ai ni faʻaletonu e pei o maosi, otaota ua pipii i totonu, ma lua. O le suʻesuʻega lava lea e tasi na matauina ai le siʻitia faʻasolosolo o le mafiafia o le fogāeleele ma le mafiafia tele o maosi pe a faʻateleina le mafiafia o le palapala i luga atu o le 8–10 wt%. I se isi itu, o le faʻaitiitia o le mafiafia e faʻaitiitia ai le lamatiaga o le faʻaletonu ae e mafai ona faʻagesegese ai le aveeseina ma faʻaleagaina ai le lamolemole.
O le fua o le wafer, o le vaega lea o wafers e fetaui ma faʻamatalaga faʻapitoa o le faagasologa pe a uma ona faʻapulusaina, e faʻatonutonuina e nei aafiaga tuʻufaʻatasi. O le maualuga o le fua o mea sese ma le aveeseina e le tutusa e faʻaitiitia ai le fua, ma faʻamamafaina ai le paleni maaleale i le va o le gaosiga ma le lelei i le gaosiga o semiconductor faʻaonaponei.
A'afiaga o Suiga Laiti o le Fa'aputuga o le Slurry i le Fa'agasologa o le CMP
E oo lava i ni nai eseesega laiti mai le maualuga o le slurry density—o ni vaega o le pasene—e mafai ona aafia tele ai le gaosiga o le faagasologa. Afai e alu ese le malosi o le abrasive i luga a'e o le sini, e ono tupu ai le faaputuga o vaega, ma mafua ai ona vave ona ofuina pads ma conditioning discs, maualuga atu le saoasaoa o le valuina o luga, ma ono poloka pe faaleagaina ai vaega o le fluidic i masini planarization kemikale. O le le lava o le density e mafai ona tuua ai ni ata tifaga toega ma foliga o luga e le masani ai, lea e lu'itauina ai laasaga o le photolithography ma faaitiitia ai le fua.
O suiga i le mafiafia o le slurry e aʻafia ai foʻi tali faʻakemikolo-mekanika i luga o le wafer, faʻatasi ai ma aʻafiaga i lalo i le faʻaletonu ma le faʻatinoga o le masini. Mo se faʻataʻitaʻiga, o vaega laiti pe le tutusa le salalau i totonu o slurries ua faʻavaivaia e aʻafia ai le fua faatatau o le aveeseina i le lotoifale, ma fausia ai le microtopography e mafai ona salalau atu o ni mea sese i le gaosiga tele. O nei mea laiti e manaʻomia ai le pulea lelei o le faʻatumuina o le slurry ma le mataʻituina malosi, aemaise lava i nodes maualuluga.
Fuaina ma le Fa'aleleia o le Mafiafia o le Slurry i le Taimi Moni
O le fuaina moni o le mafiafia o le slurry, e mafai ona faia e ala i le faʻaaogaina o mita mafiafia inline—e pei o mita mafiafia o le slurry ultrasonic na gaosia e Lonnmeter—ua avea nei ma tulaga masani i faʻaoga tau alamanuia semiconductor taʻimua. O nei meafaigaluega e mafai ai ona mataʻituina pea lava pea faʻasologa o slurry, ma tuʻuina atu ai ni faʻamatalaga vave i luga o suiga o le mafiafia aʻo fealuaʻi le slurry i totonu o meafaigaluega CMP ma faiga tufatufaina.
O faʻamanuiaga autū o le fuaina o le mafiafia o le slurry i le taimi moni e aofia ai:
- Iloa vave tulaga e le o faʻatulagaina, puipuia ai le sosolo o faʻaletonu e ala i faiga taugata i lalo ifo
- Fa'aleleia atili o le fa'agasologa—e mafai ai e inisinia ona fa'atumauina se fa'amalama lelei o le mafiafia o le palapala, fa'ateleina le fua faatatau o le ave'esea a'o fa'aitiitia ai mea sese
- Fa'aleleia atili le tutusa o le va o le wafer i le wafer ma le lot i le lot, e fa'aliliuina ai le maualuga o le gaosiga atoa
- O le soifua maloloina o meafaigaluega i se taimi umi, auā o le tele o mea e fa'aputu pe le lava le fa'aputu e mafai ona fa'avavevave ai le fa'aleagaina o pads fa'apala, mea fa'afefiloi, ma paipa tufatufaina.
O le fa'apipi'iina o masini CMP e masani ona fa'atonutonuina ai fa'ata'ita'iga po'o laina toe fa'asalalau i totonu o le sone fuaina, ma ia mautinoa o faitauga o le mafiafia e fa'atusalia ai le tafe moni o lo'o o'o atu i wafers.
Sa'o ma sa'o i le taimi monifuaina o le mafiafia o le palapalao le ivitū lea o metotia malolosi e pulea ai le mafiafia o le slurry, e lagolagoina ai fa'atulagaga fou ma fa'apupulaina o slurry, e aofia ai ma lu'itau o le Cerium oxide (CeO₂) slurries mo le interlayer ma le oxide CMP fa'apitoa. O le tausia o lenei parakalafa taua e feso'ota'i sa'o lava i le gaosiga, puleaina o tau, ma le fa'atuatuaina o masini i le faagasologa atoa o le planarization fa'akemikolo.
Mataupu Faavae ma Tekinolosi mo le Fuaina o le Mamafa o le Slurry
O le mafiafia o le slurry e faʻamatalaina ai le mamafa o mea malo i le iunite voluma i totonu o se slurry faʻapala, e pei o le Cerium oxide (CeO₂) faʻatulagaga e faʻaaogaina i le faʻatulagaina faʻamasini faʻakemikolo (CMP). O lenei fesuiaʻiga e fuafua ai le fua faatatau o le aveeseina o meafaitino, le tutusa o le gaosiga, ma le maualuga o mea sese i luga o wafers faʻapala. O le fuaina lelei o le mafiafia o le slurry e taua tele mo le puleaina lelei o le maualuga o le slurry, e aʻafia saʻo ai le fua ma le faaletonu i faʻaoga o le alamanuia semiconductor.
O lo'o fa'aaogaina le tele o mita o le mamafa o le slurry i galuega a le CMP, e ta'itasi ma fa'aaogaina mataupu fa'avae eseese o le fuaina. O metotia o le gravimetric e fa'alagolago i le aoina ma le fuaina o se voluma o le slurry ua fa'amatalaina, e ofoina atu le sa'o maualuga ae leai se gafatia i le taimi moni ma e le aoga ai mo le fa'aaogaina pea i nofoaga fa'apipi'i mo masini CMP. O mita o le mamafa eletise e fa'aogaina ai fanua eletise e fa'atatau ai le mamafa e fa'atatau i suiga i le conductivity ma le permittivity ona o vaega fa'amama. O mita vibrational, e pei o le vibrating tube densitometers, e fuaina le tali atu o le tele o le taimi o se paipa ua tumu i le slurry; o suiga i le tele o le taimi e a'afia ai le tele o le gatete, e mafai ai ona mata'ituina pea. O nei tekinolosi e lagolagoina le mata'ituina i totonu ae e mafai ona maaleale i le leaga po'o suiga o vaila'au.
O mita eletise ultrasonic slurry density o se alualu i luma taua i tekinolosi mo le mata'ituina o le density i le taimi moni i le planarization kemikali-mekanika. O nei meafaigaluega e fa'asalalauina galu ultrasonic e ala i le slurry ma fuaina le taimi-o-le-lele po'o le saoasaoa o le salalau o le leo. O le saoasaoa o le leo i totonu o se ala e fa'alagolago i lona density ma le fa'aputuga o mea malo, e mafai ai ona fuafuaina sa'o meatotino slurry. O le masini ultrasonic e matua talafeagai lava mo siosiomaga fa'amama ma fa'amalosi vaila'au e masani ai i le CMP, aua e le fa'alavelave ma fa'aitiitia ai le leaga o le sensor pe a fa'atusatusa i mita feso'ota'i tuusa'o. O lonnmeter e gaosia mita eletise ultrasonic inline ua fa'apitoa mo laina CMP o le alamanuia semiconductor.
O faʻamanuiaga o mita eletise o le slurry density e aofia ai:
- Fuaina e lē fa'alavelave: E masani ona fa'apipi'i masini fa'alogo i fafo po'o totonu o sela tafe fa'asolosolo, e fa'aitiitia ai le fa'alavelave i le slurry ma 'alofia ai le oloina o mea e lagona ai.
- Malosiaga i le taimi moni: O le fa'aauau pea o le gaosiga e mafai ai ona fetu'una'i vave le fa'agasologa, ma fa'amautinoa ai o lo'o tumau pea le mafiafia o le slurry i totonu o tapula'a ua fa'amatalaina mo le lelei sili ona lelei o le fa'apulusaina o le wafer.
- Maualuga le sa'o ma le malosi: E ofoina atu e le ultrasonic scanners ni faitauga mautu ma mafai ona toe fai, e aunoa ma le fesuisuia'i o le kemisi o le slurry po'o le avega o mea laiti i luga o fa'apipi'iga uumi.
- Tuufaatasia ma meafaigaluega CMP: O latou mamanu e lagolagoina ai le faʻapipiʻiina o laina slurry e toe faʻasalalauina poʻo manifolds tilivaina, ma faʻafaigofie ai le puleaina o le faagasologa e aunoa ma le tele o le taimi e taofia ai.
O suʻesuʻega talu ai nei i le gaosiga o semiconductor ua lipotia mai ai le faʻaitiitia o le faʻaletonu e oʻo atu i le 30% pe a faʻaopoopoina e le in-line ultrasonic density monitoring le faʻapipiʻiina o masini faʻatulagaina faʻainisinia mo le Cerium oxide (CeO₂) polishing slurry processes. O le faʻamatalaga otometi mai ultrasonic sensors e mafai ai ona pulea lelei le faʻatulagaina o slurry polishing, ma iʻu ai i le faʻaleleia atili o le mafiafia ma le faʻaitiitia o otaota o meafaitino. O le ultrasonic density meters, pe a tuʻufaʻatasia ma faʻatonuga faʻatulagaina malolosi, e faʻatumauina ai le faʻatinoga faʻatuatuaina e ui lava i suiga o le tuʻufaʻatasiga o slurry, lea e masani ona tupu i galuega faʻatino CMP faʻapitoa.
I se aotelega, o le fuaina moni o le mafiafia o le slurry i le taimi moni—aemaise lava le faʻaaogaina o le tekinolosi ultrasonic—ua avea ma autu i metotia saʻo o le puleaina o le mafiafia o le slurry i le CMP. O nei alualu i luma e faʻaleleia saʻo ai le fua, le lelei o le faagasologa, ma le lelei o le wafer i le alamanuia semiconductor.
Fa'apipi'iina ma le Tu'ufa'atasia i totonu o Faiga CMP
E taua tele le fuaina lelei o le mafiafia o le slurry mo le puleaina o le maualuga o le slurry i le faagasologa o le planarization fa'amekanika. O le filifilia o nofoaga fa'apipi'i lelei mo mita mafiafia o le slurry e a'afia ai le sa'o, le mautu o le faagasologa, ma le lelei o le wafer.
Mea Taua mo le Filifilia o Nofoaga e Faʻapipiʻi ai
I faʻatulagaga CMP, e tatau ona tuʻu ni mita mafiafia e mataʻituina ai le slurry moni e faʻaaogaina mo le faʻapalaʻau wafer. O faʻatulagaga autu o le faʻapipiʻiina e aofia ai:
- Tane Toe Fa'asalalauina:O le tu'uina o le mita i le auala e alu ese ai le vai e maua ai se malamalamaga i le tulaga o le slurry autu a'o le'i tufatufaina atu. Peita'i, e ono misia e lenei nofoaga suiga o lo'o tutupu i le itu i lalo ifo, e pei o le fausiaina o pupuni po'o aafiaga o le vevela i le lotoifale.
- Laina Fa'ao'oina:O le fa'apipi'iina pe a uma ona fa'afefiloi iunite ma a'o le'i ulufale i totonu o manifolds tufatufaina e fa'amautinoa ai o le fua o le mafiafia e atagia ai le fa'atulagaga mulimuli o le slurry, e aofia ai le Cerium oxide (CeO₂) polishing slurry ma isi mea fa'aopoopo. O lenei tulaga e mafai ai ona iloa vave suiga o le malosi o le slurry a'o le'i fa'agasoloina wafers.
- Mata'ituina o le Nofoaga e Fa'aaogaina ai:O le nofoaga sili ona lelei o lo'o i luga tonu lava o le valve po'o le meafaigaluega e fa'aaogaina. O lenei mea e pu'eina ai le mafiafia o le slurry i le taimi moni ma lapata'ia ai le au fa'agaoioia i le eseesega i tulaga o le fa'agasologa e ono tula'i mai i le fa'avevela o laina, vavae'esega, po'o le gaosia o microbubble.
A filifilia nofoaga e faʻapipiʻi ai, e tatau ona mafaufau i isi mea e pei o le faiga o le tafe, le faʻatulagaina o paipa, ma le latalata i pamu poʻo valve:
- Fa'afetaifa'apipi'i fa'atulagainafaatasi ai ma le tafe i luga e faaitiitia ai le pupuni ea ma le faaputuputuina o otaota i luga o le elemene e iloa ai.
- Ia tausia ni nai lautele o paipa i le va o le mita ma puna autū o le vevesi (pamu, valve) e 'alofia ai ni mea sese i le faitauga ona o faalavelave i le tafe o le vai.
- Fa'aaogafa'atulagaina o le tafe(mea fa'asa'o po'o vaega e fa'afilemu ai) mo le iloiloina o le fuaina o le mafiafia i se siosiomaga laminar mautu.
Luʻitau Masani ma Faiga Sili mo le Tuufaatasia o Sensor Faʻatuatuaina
O faiga fa'apipi'i CMP slurry e tula'i mai ai ni lu'itau se tele i le tu'ufa'atasia:
- Puipuia o le Ea ma Pulu:E mafai e mita o le mamafa o le slurry ultrasonic ona sese le faitauina o le mamafa pe afai o iai ni microbubbles. Aloese mai le tu'uina o masini fa'alogo lata ane i nofoaga e ulufale mai ai le ea po'o suiga fa'afuase'i o le tafe, lea e masani ona tutupu lata ane i pamu e fa'asa'oloto ai le ea po'o tane fa'afefiloi.
- Fa'aputuga:I laina faalava, e ono fetaia'i masini ma mea malo ua to'a, aemaise lava i le CeO₂ polishing slurry. E fautuaina le fa'apipi'iina fa'atulagaina pe tu'u i luga a'e o sone e ono to'a ai ina ia fa'atumauina ai le sa'o o le puleaina o le mafiafia o le slurry.
- Fa'aleagaina o le Sensor:O lo'o iai i totonu o le CMP slurries ni mea fa'a'a'a ma vaila'au e ono mafua ai ona fa'aleagaina pe ufiufi ai le sensor. O meafaigaluega Lonnmeter inline ua mamanuina e fa'aitiitia ai lenei mea, ae o le siakiina ma le fa'amamaina masani e taua tele mo le fa'atuatuaina.
- Tetete Fa'amekanika:O le tu'u latalata i masini fa'amekanika o lo'o fa'agaoioia e mafai ona fa'atupuina ai le pisa i totonu o le masini fa'alogo, ma fa'aitiitia ai le sa'o o le fuaina. Filifili nofoaga e fa'apipi'i ai e la'ititi lava le gatete.
Mo taunuuga sili ona lelei o le tu'ufa'atasiga:
- Fa'aaoga vaega o le tafe laminar mo le fa'apipi'iina.
- Ia mautinoa ua fa'atulaga sa'o i luga pe a mafai.
- Ia faigofie ona maua le tausiga ma le fa'atulagaina i lea taimi ma lea taimi.
- Vavae'ese masini fa'alogo mai le gatete ma le fa'alavelaveina o le tafe.
CMP
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Fuafuaga e Pulea ai le Fa'aputuga o le Slurry
O le pulea lelei o le malosi o le slurry i le faagasologa o le planarization fa'amekanika fa'akemikolo e taua tele mo le faatumauina o le tutusa o le ave'esea o meafaitino, fa'aitiitia ai fa'aletonu o le fogā'ele'ele o le wafer, ma fa'amautinoa le tutusa i wafers semiconductor. E tele metotia ma tekinolosi e fa'aaogaina e ausia ai lenei sa'o, e lagolagoina ai le fa'afaigofieina o galuega ma le maualuga o le gaosiga o masini.
Meafaigaluega ma Togafitiga mo le Tausia o le Fa'aputuga Lelei o le Slurry
O le puleaina o le malosi o le slurry e amata i le mata'ituina moni o vaega oona ma ituaiga vaila'au i totonu o le polishing slurry. Mo le Cerium oxide (CeO₂) polishing slurry ma isi fa'atulagaga CMP, o auala tuusa'o e pei o le fuaina o le mafiafia o le slurry e taua tele. O mita o le mafiafia o le slurry ultrasonic, e pei o na e gaosia e Lonnmeter, e tu'uina atu ai fua fa'asolosolo o le mafiafia o le slurry, lea e feso'ota'i malosi ma le aofa'i o mea mautu ma le tutusa.
O isi metotia fa'aopoopo e aofia ai le su'esu'ega o le turbidity—lea e iloa ai e masini fa'alogo opitika le salalau mai vaega fa'apalapala o lo'o tautau—ma metotia spectroscopic e pei o le UV-Vis po'o le Near-Infrared (NIR) spectroscopy e fa'atatau ai mea taua e tali atu i ai i le tafe o le slurry. O nei fuataga e fausia ai le ivitū o faiga fa'atonutonu o le CMP, e mafai ai ona fetu'una'i ola e fa'atumauina ai fa'amalama o le fa'amoemoega ma fa'aitiitia ai le eseesega o le batch-to-batch.
E faʻaaogaina masini eletise kemikolo i faʻatulagaga e tele ai ions uʻamea, e tuʻuina atu ai faʻamatalaga vave e uiga i faʻaputuga ionic faʻapitoa ma lagolagoina ai le faʻaleleia atili o galuega i totonu o faʻaoga faʻapitoa o semiconductor.
Fa'asologa o Tali ma le Fa'aautomatika mo le Pulea o le Ta'amilosaga Tapuni
O masini fa'aonaponei fa'aonaponei mo le fa'atulagaina o vaila'au ma masini e fa'aaogaina ai faiga fa'atonutonu tapuni e feso'ota'i ai le metrology inline ma faiga fa'aputu otometi. O fa'amatalaga mai mita o le mamafa o le slurry ma sensors e feso'ota'i e fafaga sa'o atu i programmable logic controllers (PLCs) po'o faiga fa'atonutonu tufatufaina (DCS). O nei faiga e otometi lava ona fa'agaoioia valves mo le fa'aopoopoina o le vai, fa'aputuina o le slurry, ma e o'o lava i le tuiina o le stabilizer, ma ia mautinoa o lo'o tumau pea le fa'agasologa i totonu o le envelope fa'agaioiga mana'omia i taimi uma.
O lenei fausaga fa'afo'i e mafai ai ona fa'asa'o pea so'o se mea sese na iloa e masini fa'alogo i le taimi moni, 'alo'ese mai le so'ona fa'avaivaia, fa'asaoina le maualuga o le fa'aogaina o vaila'au, ma fa'aitiitia le fa'aaogaina tele o vaila'au. Mo se fa'ata'ita'iga, i totonu o se meafaigaluega CMP maualuga mo ni vaega fa'apitoa o le wafer, o le a iloa e se mita eletise o le slurry density inline se pa'ū i le fa'aogaina o le slurry ma fa'ailoa vave atu i le faiga o le fa'aaogaina e fa'ateleina le fa'aofiina o le slurry, se'ia toe fo'i le density i lona tulaga atofaina. I se isi itu, afai e sili atu le density na fuaina nai lo le fa'amatalaga fa'atulagaina, o le fa'atonuga fa'atonutonu e amata ai le fa'aopoopoga o le vai fa'aopoopo e toe fa'afo'i mai ai le maualuga sa'o.
Matafaioi o le Fuaina o le Mafiafia i le Fetuuna'iina o le Vai Fa'aopoopo ma le Fa'aopoopoga o le Slurry
O le fuaina o le mafiafia o le palapala o le autū lea o le puleaina o le malosi o le gaosiga. O le tau o le mafiafia e tuʻuina atu e meafaigaluega e pei o mita mafiafia o le Lonnmeter e faʻamatalaina saʻo ai ni faʻasologa taua se lua o le faʻagaioiga: le tele o le vai e faʻaopoopoina ma le fua faatatau o le fafaga o le palapala faʻaputu.
I le tu'uina o mita o le mafiafia i nofoaga taua—e pei o le taimi a'o le'i fa'aofiina le meafaigaluega CMP pe a mae'a le fa'aogaina o le mea fa'afefiloi—o fa'amaumauga i le taimi moni e mafai ai e faiga fa'akomepiuta ona fetu'una'i le fua fa'aopoopo o le vai fa'aopoopo, ma fa'avaivaia ai le slurry i tulaga mana'omia. I le taimi lava e tasi, e mafai e le faiga ona fetu'una'i le fua fa'atatau o le slurry fa'aputu ina ia fa'atumauina le maualuga o le asphalt ma vaila'au, e aofia ai le fa'aaogaina o meafaigaluega, aafiaga o le matua, ma mea e leiloa ona o le faagasologa.
Mo se faʻataʻitaʻiga, i le taimi o le faʻalauteleina o le planarization mo fausaga 3D NAND, o le mataʻituina faifai pea o le density e iloa ai le faʻaputuina o slurry poʻo le faʻaputuina, ma mafua ai ona faʻateleina otometi le vai faʻaopoopo poʻo le faʻagaeʻetia, e pei ona manaʻomia mo le mautu o le faagasologa. O lenei loop control regulated e faʻavae i le tausia o le tutusa o le wafer-to-wafer ma totonu o le wafer, aemaise lava pe a faʻaitiitia le fua o le masini ma faʻamalama o le faagasologa.
I se aotelega, o fuafuaga e pulea ai le malosi o le slurry i le CMP e faʻalagolago i le faʻafefiloi o fuataga faʻapitoa i totonu o le laina ma tali otometi e tapunia. O mita o le mamafa o le slurry, aemaise lava iunite ultrasonic e pei o na mai Lonnmeter, e iai se sao taua i le tuʻuina atu o faʻamatalaga maualuga ma vave e manaʻomia mo le pulega faʻapitoa o faiga i laʻasaga taua o le gaosiga o semiconductor. O nei meafaigaluega ma auala e faʻaitiitia ai le fesuisuiaʻi, lagolagoina le faʻaauauina e ala i le faʻaleleia atili o le faʻaaogaina o vailaʻau, ma faʻatagaina ai le saʻo e manaʻomia mo tekinolosi faʻaonaponei.
Taiala Filifilia o le Slurry Density Miter mo le Alamanuia Semiconductor
O le filifilia o se mita o le mafiafia o le slurry mo le planarization fa'amekanika vaila'au (CMP) i le alamanuia semiconductor e mana'omia ai le ua'i toto'a i le tele o mana'oga fa'apitoa. O ta'iala autū mo le fa'atinoga ma le fa'aogaina e aofia ai le maaleale, sa'o, fetaui ma kemisi malolosi o le slurry, ma le faigofie ona tu'ufa'atasia i totonu o faiga fa'atino ma masini e tu'uina atu ai le slurry CMP.
Mana'oga mo le Ma'ale'ale ma le Sa'o
O le puleaina o le faagasologa o le CMP e faalagolago i ni nai eseesega laiti i le tuufaatasiga o le slurry. E tatau i le mita mafiafia ona iloa ni suiga laiti e 0.001 g/cm³ pe sili atu. O lenei tulaga o le maaleale e taua tele mo le faailoaina o ni suiga laiti lava i mea e abrasive—e pei o mea e maua i le CeO₂ polishing slurry po o silica-based slurries—aua o nei mea e aafia ai le fua faatatau o le aveeseina o meafaitino, wafer planarity, ma le faaletonu. O se tulaga sa'o masani e taliaina mo mita mafiafia o le semiconductor slurry e ±0.001–0.002 g/cm³.
Fegalegaleai ma Slurries Malosi
O mea olo e fa'aaogaina i le CMP e mafai ona i ai ni nanoparticles fa'a'a'a e pei o le cerium oxide (CeO₂), alumina, po'o le silica, e fa'apipi'iina i totonu o mea fa'aola. E tatau i le mita o le mamafa ona tatalia le umi o le fa'aalia i le oloina fa'aletino ma siosiomaga fa'a'a'a e aunoa ma le se'e ese mai le tulaga fa'atulagaina po'o le mafatia i le leaga. O mea e fa'aaogaina i vaega susu e tatau ona le gaoioi i kemisi uma o mea olo e masani ona fa'aaogaina.
Faigofie o le Tuufaatasia
E tatau ona fetaui lelei mita o le mafiafia o le slurry inline i totonu o masini CMP o loʻo iai nei. O mea e mafaufau i ai e aofia ai:
- La'ititi le voluma e oti ai ma maualalo le pa'ū o le mamafa ina ia 'alofia ai le a'afiaga o le tu'uina atu o le slurry.
- Lagolago mo feso'ota'iga fa'apisinisi masani mo le fa'apipi'iina ma le tausiga vave.
- Feso'ota'iga o fa'aulufalega (e pei o fa'ailoilo analog/numera) mo le feso'ota'iga i le taimi moni ma faiga e pulea ai le fa'ateleina o le slurry, ae e aunoa ma le tu'uina atu o na lava faiga.
Vaega Fa'atusatusa o Tekonolosi Ta'imua o Sensor
O le puleaina o le mafiafia o le oloina o mea olo e pulea tele lava e ala i vasega sene e lua: o le densitometry-based ma le refractometry-based mita. O vaega taʻitasi e aumaia ai ni malosiaga e talafeagai mo faʻaoga i le alamanuia o semiconductor.
Mita e fa'avae i luga o le Densitometry (e pei o le Ultrasonic Slurry Density Miter)
- E fa'aaogā le saoasaoa o le sosolo o le leo i totonu o le slurry, e feso'ota'i tonu lava ma le mafiafia.
- E maua ai le maualuga o le fua o le mafiafia i le tele o ituaiga o slurry ma ituaiga o mea abrasive.
- E fetaui lelei mo fa'apalapala malolosi, e aofia ai le CeO₂ ma fa'asologa silica, aua e mafai ona faia fa'apitoa vaega e iloa ai mea mai vaila'au.
- O le maaleale ma le sa'o masani e ausia ai le mana'oga e i lalo ifo o le 0.001 g/cm³.
- O le fa'apipi'iina e masani ona faia i luga o le laina, e mafai ai ona fuaina pea i le taimi moni a'o fa'agaoioia le masini fa'atulagaina fa'akemikolo.
Mita e faʻavae i luga o le Refractometry
- Fuaina le refractive index e iloa ai le mafiafia o le slurry.
- Aoga mo le iloa o suiga laiti i le tuufaatasiga o le slurry ona o le maualuga o le maaleale i suiga o le malosi; e mafai ona foia suiga o le <0.1% o le vaega o le mamafa.
- Ae ui i lea, e maaleale le fa'asinomaga o le refractive i fesuia'iga o le siosiomaga e pei o le vevela, e mana'omia ai le fa'atulagaina ma le fa'aeteete ma le tauia o le vevela.
- Atonu e le fetaui lelei ma vaila'au fa'akemikolo, aemaise lava i palapala e matua'i onā pe le manino fo'i.
Fuainumera o le Tele o le Particle e fai ma Fa'aopoopoga
- E mafai ona fa'api'opi'o le faitauga o le mafiafia ona o suiga i le tufatufaina o le tele o vaega po'o le fa'aputuga.
- O le tu'ufa'atasia ma le au'ili'iliga o le telē o vaega fa'avaitaimi (e pei o le fa'asalalauina o le malamalama fa'aonaponei po'o le microscopy eletise) e fautuaina e ala i faiga sili ona lelei a le alamanuia, ma ia mautinoa ai o suiga manino o le mafiafia e le na'o le fa'aputuga o vaega e mafua ai.
Mafaufauga mo Lonnmeter Inline Density Miters
- E fa'apitoa le Lonnmeter i le gaosiga o mita mafiafia ma le viscosity e fa'aoga i totonu, e aunoa ma le tu'uina atu o polokalama faakomepiuta lagolago po'o ni fa'atulagaga fa'akomepiuta.
- E mafai ona fa'amaoti mai mita lonnmeter e tete'e atu i mea olopalaina ma vaila'au CMP ma ua mamanuina mo le fa'apipi'iina sa'o i totonu o masini fa'agasologa semiconductor, e fetaui ma mana'oga mo le fuaina moni o le mafiafia o le slurry.
A e toe iloiloina filifiliga, ia taula’i atu i tulaga autū o le fa’aaogaina: ia mautinoa o le mita mafiafia e ausia le lagona ma’ale’ale ma le sa’o e mana’omia, ua fausia mai meafaitino e fetaui ma lau kemisi o le slurry, e tete’e atu i le fa’agaioiga faifai pea, ma e tu’ufa’atasia lelei i totonu o laina fa’apalapala o le slurry i le faiga o le CMP. Mo le alamanuia semiconductor, o le fuaina sa’o o le mafiafia o le slurry e fa’avae ai le tutusa o le wafer, le fua, ma le gaosiga.
A'afiaga o le Pulea Lelei o le Mamafa o le Slurry i Taunu'uga o le CMP
E taua tele le puleaina sa'o o le mafiafia o le slurry i le faagasologa o le fa'atulagaina fa'amekanika fa'akemikolo. Afai e tutusa le mafiafia, e tumau pea le aofa'i o vaega oona o lo'o i ai i le taimi o le fa'apulusaina. E a'afia sa'o ai le fua faatatau o le aveeseina o meafaitino (MRR) ma le lelei o le fogāeleele o le wafer.
Fa'aitiitia o Fa'aletonu o le Laupapa Wafer ma Fa'aleleia atili le WIWNU
O le tausia o le mafiafia lelei o le slurry ua faʻamaonia e faʻaitiitia ai faʻaletonu o luga o le wafer e pei o maosi laiti, dishing, ele, ma le faʻaleagaina o vaega. O suʻesuʻega mai le 2024 ua faʻaalia ai o le maualuga o le mafiafia e pulea, e masani lava i le va o le 1 wt% i le 5 wt% mo faʻatulagaga faʻavae i luga o le colloidal silica, e maua ai le paleni sili i le va o le lelei o le aveeseina ma le faʻaitiitia o faʻaletonu. O le maualuga tele o le mafiafia e faʻateleina ai fetoʻai ma le abrasive, e oʻo atu ai i le faʻateleina faalua i le tolu taimi o le aofaʻi o faʻaletonu i le sikuea senitimita, e pei ona faʻamaonia e le atomic force microscopy ma auʻiliʻiliga ellipsometry. O le pulea lelei o le mafiafia e faʻaleleia atili ai foʻi le within-wafer non-uniformity (WIWNU), ma faʻamautinoa ai o loʻo aveʻesea tutusa mea i luga o le wafer, lea e taua mo masini semiconductor faʻapitoa. O le mafiafia tutusa e fesoasoani e puipuia ai le faʻalavelaveina o le faʻagasologa e ono lamatia ai le mafiafia o le ata tifaga poʻo le lamolemole.
Fa'alauteleina o le Ola o le Slurry ma le Fa'aitiitia o Tau o Mea Fa'aaoga
O metotia e pulea ai le malosi o le slurry—e aofia ai le mata'ituina i le taimi moni ma mita ultrasonic slurry density—e fa'alauteleina ai le umi e aoga ai le CMP polishing slurry. I le puipuia o le so'ona fa'aaogaina po'o le so'ona fa'avaivaia, o masini fa'ata'ati'a fa'amekanika vaila'au e ausia ai le fa'aogaina lelei o mea e fa'aaogaina. O lenei auala e fa'aitiitia ai le tele o le suia o le slurry ma fa'afaigofie ai fuafuaga toe fa'aaogaina, ma fa'aitiitia ai tau atoa. Mo se fa'ata'ita'iga, i fa'aoga CeO₂ polishing slurry, o le tausiga fa'aeteete o le mafiafia e mafai ai ona toe fa'aleleia vaega o slurry ma fa'aitiitia ai le tele o otaota e aunoa ma le fa'aleagaina o le fa'atinoga. O le pulea lelei o le mafiafia e mafai ai e inisinia o faiga ona toe fa'aleleia ma toe fa'aaoga le polishing slurry o lo'o tumau pea i totonu o tulaga fa'atino talafeagai, ma fa'ateleina ai le fa'asaoina o tau.
Fa'aleleia atili o le Toe Fai ma le Puleaina o Fa'agasologa mo le Gaosiga o Node Maualuga
O faʻaoga faʻaonaponei o le alamanuia semiconductor e manaʻomia ai le toe faia tele i le laʻasaga o le planarization kemikali-mekanika. I le gaosiga o node faʻapitoa, e oʻo lava i ni nai suiga laiti i le slurry density e mafai ona iʻu ai i ni suiga e le taliaina i taunuuga o le wafer. O le otometi ma le tuʻufaʻatasia o inline ultrasonic slurry density meters—e pei o na gaosia e Lonnmeter—e faʻafaigofie ai le faʻaauau pea, faʻamatalaga i le taimi moni mo le puleaina o le faagasologa. O nei meafaigaluega e tuʻuina atu fua saʻo i siosiomaga faʻakemikolo faigata e masani ai i le CMP, e lagolagoina ai faiga tapuni-loop e tali vave atu i suiga. O le fuaina faʻatuatuaina o le density o lona uiga o le tutusa tele mai le wafer i le wafer ma le pulea lelei o le MRR, lea e taua tele mo le gaosiga o semiconductor sub-7nm. O le faʻapipiʻiina lelei o masini—tulaga saʻo i le laina tuʻuina atu o slurry—ma le tausiga masani e taua tele e faʻamautinoa ai o loʻo galue lelei mita ma tuʻuina atu faʻamatalaga taua mo le mautu o le faagasologa.
O le tausia o le mafiafia talafeagai o le slurry e taua tele mo le faʻateleina o le gaosiga o oloa, faʻaitiitia ai mea sese, ma faʻamautinoa le taugofie o le gaosiga i faiga CMP.
Fesili e Masani Ona Fesiligia (FAQs)
O le ā le galuega a le mita o le mamafa o le slurry i le faagasologa o le fa'atulagaina o le kemikolo ma le masini?
O le mita o le mafiafia o le slurry e taua tele i le faagasologa o le planarization fa'amekanika fa'akemikolo e ala i le fuaina pea o le mafiafia ma le malosi o le polishing slurry. O lona galuega autu o le tu'uina atu lea o fa'amatalaga i le taimi moni i luga o le paleni o le abrasive ma le vaila'au i totonu o le slurry, ma ia mautinoa o lo'o i totonu o tapula'a sa'o uma mo le planarization lelei o le wafer. O lenei pulea i le taimi moni e puipuia ai fa'aletonu e pei o le valuina po'o le aveeseina o mea e le tutusa, e masani ona i ai i paluga slurry ua so'ona fa'avaivaia pe le lava. O le mafiafia tutusa o le slurry e fesoasoani e fa'atumauina le toe gaosia i le gaosiga atoa, fa'aitiitia ai le eseesega o le wafer-i-le-wafer, ma lagolagoina le fa'aleleia atili o le faagasologa e ala i le fa'aosofia o gaioiga fa'asa'o pe a iloa ni fa'aletonu. I le gaosiga fa'atekonolosi fa'atekonolosi ma fa'aoga fa'atuatuaina maualuga, o le mata'ituina pea e fa'aitiitia ai fo'i otaota ma lagolagoina ai fuataga fa'amautinoa lelei.
Aiseā e sili ai ona fa'aaogāina le CeO₂ polishing slurry mo nisi la'asaga fa'ata'atitia i le alamanuia semiconductor?
O le Cerium oxide (CeO₂) polishing slurry ua filifilia mo ni la'asaga fa'apitoa o le semiconductor planarization ona o lona filifiliga tulaga ese ma le malosi fa'akemikolo, aemaise lava mo tioata ma ata oxide. O ona vaega fa'apala tutusa e mafua ai le planarization maualuga ma le maualalo o fua fa'aletonu ma le itiiti o le valuina o luga. O meatotino fa'akemikolo o le CeO₂ e mafai ai ona mautu ma toe fai fua fa'atatau o le aveeseina, e taua mo fa'aoga fa'apitoa e pei o le photonics ma high-density integrated circuits. E le gata i lea, o le CeO₂ slurry e tete'e atu i le fa'aputuga, ma tausia ai se fa'atumauina tutusa e tusa lava pe a fa'agasolo umi le CMP.
E fa'apefea ona fa'agaoioia le mita o le mafiafia o le slurry ultrasonic pe a fa'atusatusa i isi ituaiga o fua?
O le mita ultrasonic slurry density e galue e ala i le faʻasalalauina o galu leo e ala i le slurry ma fuaina le saoasaoa ma le faʻaitiitia o nei galu. O le slurry density e aʻafia saʻo ai le saoasaoa o le malaga a galu ma le tele o le faʻaitiitia o lo latou malosi. O lenei auala fuaina e le faʻalavelave ma e maua ai faʻamatalaga moni o le slurry concentration e aunoa ma le manaʻomia e vavaeʻese pe faʻalavelaveina faaletino le tafe o le faagasologa. O metotia ultrasonic e faʻaalia ai le itiiti ifo o le maaleale i mea eseese e pei o le saoasaoa o le tafe poʻo le tele o le vaega pe a faʻatusatusa i masini (float-based) poʻo le gravimetric density measurement system. I le chemical mechanical planarization, o lenei mea e faʻaliliuina i ni fua faʻatuatuaina ma malosi e oʻo lava i slurries e tafe maualuga, e tele ai le particulate.
O fea e tatau ona fa'apipi'i ai mita o le mamafa o le slurry i totonu o se faiga CMP?
O tulaga sili ona lelei mo le faʻapipiʻiina o le mita o le slurry density i masini faʻatulagaina faʻamasini kemikolo e aofia ai:
- O le tane toe fa'asalalau: e mata'ituina pea le mafiafia atoa o le palapala a'o le'i tufatufaina atu.
- A'o le'i tu'uina atu i le polishing pad i le nofoaga e fa'aaogaina ai: ia mautinoa o le slurry na tu'uina atu e ausia tulaga fa'atulagaina o le mafiafia.
- A maeʻa ona palu le slurry: ia mautinoa o vaega fou ua saunia e ogatasi ma faʻatulagaga manaʻomia aʻo leʻi ulufale atu i le faʻagasologa o le faagasologa.
O nei tulaga fa'ata'atitia e mafai ai ona vave iloa ma fa'asa'oina so'o se eseesega i le maualuga o le slurry, e puipuia ai le fa'aletonu o le tulaga lelei o le wafer ma fa'alavelaveina o le fa'agasologa. O le tu'uina atu e fa'atonutonuina e le fa'agasologa o le tafe o le slurry, amioga masani o le palu fa'atasi, ma le mana'omia o le vave toe fa'afo'i mai e lata ane i le planarization pad.
E faʻapefea ona faʻaleleia atili e le puleaina saʻo o le faʻaputuina o le slurry le faʻatinoga o le faiga o le CMP?
O le puleaina sa'o o le fa'aputuga o le slurry e fa'aleleia atili ai le fa'agasologa o le fa'atulagaina o vaila'au fa'amekanika e ala i le fa'amautinoaina o le tutusa o le ave'esea, fa'aitiitia ai le tete'e atu o pepa i le eseesega, ma fa'aitiitia ai le tele o fa'aletonu o luga. O le mafiafia mautu o le slurry e fa'alauteleina ai le umi o le fa'apala ma le wafer e ala i le puipuia o le fa'aaogaina tele po'o le le lava o le fa'aaogaina o mea fa'apala. E fa'aitiitia ai fo'i tau o le fa'agasologa e ala i le fa'aleleia atili o le fa'aaogaina o le slurry, fa'aitiitia ai le toe faia o galuega, ma lagolagoina ai le maualuga o le gaosiga o masini semiconductor. Ae maise lava i le gaosiga fa'atekonolosi ma le gaosiga o masini quantum, o le puleaina malosi o le slurry e lagolagoina ai le lamolemole e mafai ona toe gaosia, fa'atinoga eletise tutusa, ma fa'aitiitia ai le tafe i totonu o fausaga o masini.
Taimi na lafoina ai: Tesema-09-2025
