Chemical Mechanical Polishing

Химиялық-механикалық жылтырату (ХМЖ) көбінесе химиялық реакция арқылы тегіс беттерді алумен байланысты, әсіресе жартылай өткізгіштер өндірісінде қолданылады.Лоннметр, 20 жылдан астам уақыт бойы желілік концентрацияны өлшеу тәжірибесі бар сенімді инноватор, заманауи технологияларды ұсынадыядролық емес тығыздық өлшегіштеріжәне шламды басқару қиындықтарын шешу үшін тұтқырлық сенсорлары.

Шлам сапасының және лоннметрдің тәжірибесінің маңыздылығы

Химиялық механикалық жылтырату суспензиясы CMP процесінің негізі болып табылады, беттердің біркелкілігі мен сапасын анықтайды. Сұйықтық тығыздығының немесе тұтқырлығының сәйкес келмеуі микросызаттар, материалдың біркелкі емес алынуы немесе төсемнің бітелуі сияқты ақауларға әкелуі мүмкін, бұл пластина сапасына кері әсерін тигізеді және өндіріс шығындарын арттырады. Өнеркәсіптік өлшеу шешімдерінің әлемдік көшбасшысы Lonnmeter суспензияның оңтайлы жұмысын қамтамасыз ету үшін суспензияны желілік өлшеуге маманданған. Сенімді, жоғары дәлдіктегі сенсорларды жеткізудегі дәлелденген тәжірибесімен Lonnmeter процесті басқаруды және тиімділікті арттыру үшін жетекші жартылай өткізгіш өндірушілермен серіктестік орнатты. Олардың ядролық емес суспензия тығыздық өлшегіштері мен тұтқырлық сенсорлары нақты уақыт режимінде деректерді береді, бұл суспензияның консистенциясын сақтау және заманауи жартылай өткізгіш өндірісінің қатаң талаптарын қанағаттандыру үшін дәл түзетулерді енгізуге мүмкіндік береді.

Жетекші жартылай өткізгіш фирмалардың сеніміне ие, желілік концентрацияны өлшеу саласындағы жиырма жылдан астам тәжірибе. Lonnmeter сенсорлары үздіксіз интеграциялау және нөлдік техникалық қызмет көрсету үшін жасалған, бұл пайдалану шығындарын азайтады. Арнайы технологиялық қажеттіліктерді қанағаттандыру үшін бейімделген шешімдер, жоғары пластина өнімділігі мен сәйкестікті қамтамасыз етеді.

Жартылай өткізгіштер өндірісіндегі химиялық механикалық жылтыратудың рөлі

Химиялық механикалық жылтырату (ХМЖ), сондай-ақ химиялық-механикалық жазықтық деп аталады, жартылай өткізгіш өндірісінің негізі болып табылады, ол озық чип өндірісі үшін тегіс, ақаусыз беттерді жасауға мүмкіндік береді. Химиялық оюды механикалық абразивтілікпен біріктіру арқылы ХМЖ процесі 10 нм-ден төмен түйіндердегі көп қабатты интегралдық схемалар үшін қажетті дәлдікті қамтамасыз етеді. Судан, химиялық реагенттерден және абразивті бөлшектерден тұратын химиялық механикалық жылтырату суспензиясы материалды біркелкі кетіру үшін жылтырату жастықшасымен және пластинамен әрекеттеседі. Жартылай өткізгіш конструкциялары дамыған сайын, ХМЖ процесі күрделене түседі, бұл ақаулардың алдын алу және жартылай өткізгіш құю зауыттары мен материалдар жеткізушілері талап ететін тегіс, жылтыратылған пластиналарға қол жеткізу үшін суспензия қасиеттерін қатаң бақылауды талап етеді.

Бұл процесс минималды ақаулары бар 5 нм және 3 нм чиптерді өндіру үшін өте маңызды, бұл кейінгі қабаттарды дәл жағу үшін тегіс беттерді қамтамасыз етеді. Тіпті суспензияның шамалы сәйкессіздіктері де қымбат қайта өңдеуге немесе өнімділіктің төмендеуіне әкелуі мүмкін.

Шлам қасиеттерін бақылаудағы қиындықтар

Химиялық механикалық жылтырату процесінде суспензия тығыздығы мен тұтқырлығын тұрақты ұстау көптеген қиындықтарға толы. Шламның қасиеттері тасымалдау, сумен немесе сутегі асқын тотығымен сұйылту, араластырудың жеткіліксіздігі немесе химиялық ыдырау сияқты факторларға байланысты өзгеруі мүмкін. Мысалы, суспензия қапшықтарында бөлшектердің шөгуі түбінде тығыздықтың жоғарылауына әкелуі мүмкін, бұл біркелкі емес жылтыратуды тудырады. рН, тотығу-тотықсыздану потенциалы (ORP) немесе өткізгіштік сияқты дәстүрлі бақылау әдістері көбінесе жеткіліксіз, себебі олар суспензия құрамындағы нәзік өзгерістерді анықтай алмайды. Бұл шектеулер ақауларға, жою жылдамдығының төмендеуіне және тұтынылатын шығындардың артуына әкелуі мүмкін, бұл жартылай өткізгіш жабдықтар өндірушілері мен CMP қызметтерін жеткізушілер үшін айтарлықтай қауіп төндіреді. Өңдеу және тарату кезіндегі құрамдық өзгерістер өнімділікке әсер етеді. 10 нм-ден кіші түйіндер суспензияның тазалығы мен қоспаның дәлдігін қатаң бақылауды қажет етеді. рН және ORP минималды ауытқуды көрсетеді, ал өткізгіштік суспензияның қартаюымен өзгереді. Салалық зерттеулерге сәйкес, суспензия қасиеттерінің сәйкес келмеуі ақау деңгейін 20%-ға дейін арттыруы мүмкін.

Нақты уақыт режимінде бақылауға арналған Lonnmeter кірістірілген сенсорлары

Lonnmeter компаниясы өзінің озық ядролық емес суспензия тығыздық өлшегіштерімен осы қиындықтарды шешеді жәнетұтқырлық сенсорлары, тұтқырлықты өлшеуге арналған тұтқырлық өлшегішін және бір мезгілде суспензия тығыздығы мен тұтқырлықты бақылауға арналған ультрадыбыстық тығыздық өлшегішін қоса алғанда. Бұл сенсорлар салалық стандартты қосылымдарды қамтитын CMP процестеріне үздіксіз интеграциялауға арналған. Lonnmeter шешімдері берік конструкциясы үшін ұзақ мерзімді сенімділік пен төмен техникалық қызмет көрсетуді ұсынады. Нақты уақыттағы деректер операторларға суспензия қоспаларын дәл баптауға, ақаулардың алдын алуға және жылтырату өнімділігін оңтайландыруға мүмкіндік береді, бұл құралдарды талдау және сынау жабдықтарын жеткізушілер мен CMP шығын материалдарын жеткізушілер үшін таптырмас етеді.

CMP оңтайландыру үшін үздіксіз мониторингтің артықшылықтары

Lonnmeter компаниясының ішкі сенсорларымен үздіксіз бақылау химиялық механикалық жылтырату процесін түбегейлі өзгертеді, бұл іс жүзінде қолдануға болатын түсініктер мен айтарлықтай шығындарды үнемдеуге мүмкіндік береді. Нақты уақыттағы шлам тығыздығын өлшеу және тұтқырлықты бақылау салалық эталондарға сәйкес сызаттар немесе шамадан тыс жылтырату сияқты ақауларды 20%-ға дейін азайтады. PLC жүйесімен интеграция автоматтандырылған мөлшерлеуді және процесті басқаруды қамтамасыз етеді, бұл шлам қасиеттерінің оңтайлы диапазонда болуын қамтамасыз етеді. Бұл тұтынылатын шығындарды 15-25%-ға төмендетуге, тоқтап қалу уақытын азайтуға және пластиналардың біркелкілігін жақсартуға әкеледі. Жартылай өткізгіш құю зауыттары мен CMP қызметтерін жеткізушілер үшін бұл артықшылықтар өнімділіктің жоғарылауына, пайда маржасының жоғарылауына және ISO 6976 сияқты стандарттарға сәйкестікке әкеледі.

CMP-дегі шламды бақылау туралы жиі қойылатын сұрақтар

Неліктен CMP үшін суспензия тығыздығын өлшеу маңызды?

Шлам тығыздығын өлшеу бөлшектердің біркелкі таралуын және қоспаның консистенциясын қамтамасыз етеді, ақаулардың алдын алады және химиялық механикалық жылтырату процесінде кетіру жылдамдығын оңтайландырады. Ол жоғары сапалы пластина өндірісін және салалық стандарттарға сәйкестікті қолдайды.

Тұтқырлықты бақылау CMP тиімділігін қалай арттырады?

Тұтқырлықты бақылау суспензияның тұрақты ағынын қамтамасыз етеді, төсемнің бітелуі немесе біркелкі емес жылтырату сияқты мәселелердің алдын алады. Lonnmeter-дің кірістірілген сенсорлары CMP процесін оңтайландыру және пластина өнімділігін жақсарту үшін нақты уақыт режимінде деректерді береді.

Лоннметрдің ядролық емес суспензия тығыздық өлшегіштерін ерекше ететін не?

Lonnmeter компаниясының ядролық емес суспензия тығыздық өлшегіштері тығыздық пен тұтқырлықты бір мезгілде өлшеуді жоғары дәлдікпен және нөлдік техникалық қызмет көрсетумен қамтамасыз етеді. Олардың берік дизайны CMP технологиялық ортасында сенімділікті қамтамасыз етеді.

Жартылай өткізгіш өндірісінде химиялық механикалық жылтырату процесін оңтайландыру үшін нақты уақыт режимінде шлам тығыздығын өлшеу және тұтқырлықты бақылау өте маңызды. Lonnmeter компаниясының ядролық емес шлам тығыздығын өлшегіштері мен тұтқырлық сенсорлары жартылай өткізгіш жабдықтарын өндірушілерге, CMP шығын материалдарын жеткізушілерге және жартылай өткізгіш құю зауыттарына шламды басқару қиындықтарын жеңуге, ақауларды азайтуға және шығындарды төмендетуге арналған құралдарды ұсынады. Дәл, нақты уақыт режимінде деректерді ұсыну арқылы бұл шешімдер процестің тиімділігін арттырады, сәйкестікті қамтамасыз етеді және бәсекеге қабілетті CMP нарығында кірістілікті арттырады. Кіріңіз.Лоннметердің веб-сайтынемесе Lonnmeter химиялық механикалық жылтырату операцияларыңызды қалай өзгерте алатынын білу үшін бүгін олардың командасына хабарласыңыз.

Қазір әрекет етіңіз

Жарияланған уақыты: 2025 жылғы 22 шілде