Polissage chimico-mécanique

Défis liés au suivi des propriétés des boues

Maintenir une densité et une viscosité constantes de la suspension abrasive lors du polissage chimico-mécanique est une tâche complexe. Les propriétés de la suspension peuvent varier en raison de facteurs tels que le transport, la dilution avec de l'eau ou du peroxyde d'hydrogène, un mélange insuffisant ou la dégradation chimique. Par exemple, la sédimentation des particules dans les conteneurs de suspension peut entraîner une densité plus élevée au fond, ce qui conduit à un polissage non uniforme. Les méthodes de contrôle traditionnelles, comme le pH, le potentiel d'oxydoréduction (ORP) ou la conductivité, sont souvent insuffisantes, car elles ne permettent pas de détecter les variations subtiles de la composition de la suspension. Ces limitations peuvent engendrer des défauts, une réduction des taux d'enlèvement de matière et une augmentation des coûts des consommables, ce qui représente un risque important pour les fabricants d'équipements pour semi-conducteurs et les prestataires de services de polissage chimico-mécanique. Les variations de composition lors de la manipulation et de la distribution affectent les performances. Les nœuds technologiques inférieurs à 10 nm exigent un contrôle plus strict de la pureté de la suspension et de la précision du mélange. Le pH et l'ORP présentent une variation minimale, tandis que la conductivité varie avec le vieillissement de la suspension. Des propriétés de suspension non homogènes peuvent augmenter les taux de défauts jusqu'à 20 %, selon des études industrielles.

Capteurs en ligne Lonnmeter pour la surveillance en temps réel

Lonnmeter relève ces défis grâce à ses densimètres de suspension non nucléaires de pointe etcapteurs de viscositéL'équipement Lonnmeter comprend un viscosimètre en ligne pour les mesures de viscosité en continu et un densimètre à ultrasons pour le contrôle simultané de la densité et de la viscosité des suspensions. Ces capteurs sont conçus pour une intégration aisée dans les procédés de polissage chimico-mécanique (CMP) et sont dotés de connexions conformes aux normes industrielles. Les solutions Lonnmeter offrent une fiabilité à long terme et nécessitent peu d'entretien grâce à leur conception robuste. Les données en temps réel permettent aux opérateurs d'ajuster avec précision les mélanges de suspensions, de prévenir les défauts et d'optimiser les performances de polissage, ce qui rend ces outils indispensables pour les fournisseurs d'équipements d'analyse et de contrôle ainsi que pour les fournisseurs de consommables CMP.

Avantages de la surveillance continue pour l'optimisation du CMP

La surveillance continue grâce aux capteurs en ligne Lonnmeter révolutionne le polissage chimico-mécanique en fournissant des informations exploitables et en générant des économies substantielles. La mesure en temps réel de la densité et de la viscosité de la suspension permet de réduire les défauts tels que les rayures ou le surpolissage jusqu'à 20 %, conformément aux normes industrielles. L'intégration avec un système PLC assure un dosage automatisé et un contrôle précis du processus, garantissant ainsi le maintien des propriétés de la suspension dans des plages optimales. Il en résulte une réduction de 15 à 25 % des coûts de consommables, une minimisation des temps d'arrêt et une meilleure uniformité des plaquettes. Pour les fonderies de semi-conducteurs et les prestataires de services CMP, ces avantages se traduisent par une productivité accrue, des marges bénéficiaires plus élevées et la conformité aux normes telles que l'ISO 6976.